Onderzoek naar de conformaliteit van Atomaire Laag Depositie van metalen

Groep: CoCooN

Promotoren: Jolien Dendooven, Christophe Detavernier

Begeleiding: Véronique Cremers

Inlichtingen: tel. 09/264.43.42 of contacteer rechtstreeks een betrokken persoon (de contact-gegevens opvragen door op de naam te klikken)

Probleemstelling van de masterproef

Atomaire Laag Depositie (ALD) is een techniek waarbij dunne lagen atoomlaag per atoomlaag worden gegroeid door middel van reacties tussen precursorgassen en een verwarmd substraat.  Met ALD is het mogelijk om uniforme lagen af te zetten met een uitstekende controle van de filmdikte (tot op een nanometer nauwkeurig!) en een zeer goede conformaliteit.

In deze masterproef wordt de focus gelegd op ALD van edelmetalen zoals Pt en Ru.  Edelmetalen worden o.a. gebruikt als katalysator, of in de micro-electronica. In tegenstelling tot ALD van metaal-oxiden en metaal-nitriden is de conformaliteit van metaal ALD beperkter en minder uitvoerig beschreven in de bestaande literatuur.

1718co10.png 

Figuur 1: Teststructuur voor het onderzoeken van de conformaliteit van een ALD proces.

 

Doelstelling van de masterproef

Het doel van deze masterproef is om een beter inzicht te krijgen in de conformaliteit van metaal ALD en te onderzoeken door welke proces parameters deze beïnvloed wordt.  De bedoeling is om een systematische studie uit te voeren van verschillende metaal ALD processen, gedurende de verschillende regimes van het ALD proces: zowel gedurende de eerste ALD cycli waarin er nucleatie en eilandgroei optreedt als tijdens het stationaire regime van de groei.  Hiervoor zal er gebruik gemaakt worden van macroscopische teststructuren (een methode die eerder in de groep ontwikkeld werd).  Deze experimentele resultaten zullen ook getoetst kunnen worden aan Monte Carlo simulaties, gebaseerd op een bestaand simulatie model.