Atomic Layer Deposition of Ultrathin Coatings on Metal Nanoparticles for Catalyst Stabilization
- Promovendus/a
- Zhang, Zhiwei
- Faculteit
- Faculteit Wetenschappen
- Vakgroep
- Vakgroep Vastestofwetenschappen
- Academische graad
- Doctor in de wetenschappen: fysica
- Taal proefschrift
- Engels
- Promotor(en)
- prof. dr. Christophe Detavernier, WE04 - prof. dr. Jolien Dendooven, WE04 - prof. dr. Matthias Filez, WE04
- Examencommissie
- voorzitter: prof. dr. Nele Vandersickel, WE05 - dr. Eduardo Solano (ALBA synchrotron, Spain) - dr. Kinanti Aliyah, WE04 - prof. dr. ir. Ruud Van Ommen (TU Delft, Netherlands) - prof. dr. Vladimir Galvita, EA11
Korte beschrijving
Atoomlaagdepositie (ALD) is een techniek die wordt toegepast om nanodeeltjes of -partikels (NP) te bedekken met een dunne film om hun inherente stabiliteit te verhogen. Twee kritische uitdagingen belemmeren de vooruitgang: het beperkte inzicht in de oppervlakteomstandigheden tijdens het ALD-proces, en het gedrag van de bedekte NP tijdens warmtebehandeling.
In deze thesis werd het effect van een ALD laag op een NP onderzocht via i) de ontwikkeling van ALD-gebaseerde strategieën om sintering van nanodeeltjes te voorkomen, ii) de evaluatie van verschillende oppervlaktereacties tijdens het ALD-proces, iii) studie van het sintergedrag, en iv) karakterisatie van de resulterende textuur van ALD behandelde nanodeeltjes tijdens katalyse. Voor de eerste stap werd een sub-monolaag van magnesiumoxide (MgO) afgezet met behulp van ALD om het sintergedrag van platina NP onder hoge temperatuur te beperken. Vervolgens werd de selectiviteit van MgO-ALD groei op verschillende substraatmaterialen bestudeerd. De oppervlaktechemie tijdens het proces op blanco substraten en substraten gedecoreerd met NP werd onderzocht, het meest prominente resultaat was dat de koolstofverbindingen aanwezig op het oppervlak een grote rol spelen in de nucleatie en groei van de MgO laag. Het sintergedrag van ALD behandelde NP werd geëvalueerd tijdens katalyse. Ten slotte werd de textuur van Pt NP bestudeerd, alsook de relatie tussen het sintergedrag en de resulterende textuur.
In deze thesis werd het effect van een ALD laag op een NP onderzocht via i) de ontwikkeling van ALD-gebaseerde strategieën om sintering van nanodeeltjes te voorkomen, ii) de evaluatie van verschillende oppervlaktereacties tijdens het ALD-proces, iii) studie van het sintergedrag, en iv) karakterisatie van de resulterende textuur van ALD behandelde nanodeeltjes tijdens katalyse. Voor de eerste stap werd een sub-monolaag van magnesiumoxide (MgO) afgezet met behulp van ALD om het sintergedrag van platina NP onder hoge temperatuur te beperken. Vervolgens werd de selectiviteit van MgO-ALD groei op verschillende substraatmaterialen bestudeerd. De oppervlaktechemie tijdens het proces op blanco substraten en substraten gedecoreerd met NP werd onderzocht, het meest prominente resultaat was dat de koolstofverbindingen aanwezig op het oppervlak een grote rol spelen in de nucleatie en groei van de MgO laag. Het sintergedrag van ALD behandelde NP werd geëvalueerd tijdens katalyse. Ten slotte werd de textuur van Pt NP bestudeerd, alsook de relatie tussen het sintergedrag en de resulterende textuur.
Praktisch
- Datum
- Woensdag 26 november 2025, 15:00
- Locatie
- Campus Sterre - S2 - Faculteitsraadzaal, Krijgslaan 281, 9000 Gent
- Livestream
- Volg online